設備簡介

日本電子JEM-2100F透射（TEM-UHR型）

配有掃描透射（STEM）裝置，能量色散X射線光譜儀（EDS）裝置和CCD相機

設備技術參數：

電子槍加速電壓：高200KV

放大倍數：20000-1500000； 放大倍數誤差≤±10%；

分辨率：點分辨率：0.19nm；  晶格分辨率：0.1nm；

             掃描透射分辨率: 0.20nm。

制樣設備：

1.Tenupol-5電解雙噴減薄儀；

2.PIPS II695精密離子減薄儀；

3.IsoMet 4000精密切割機

應用領域

   用于合金、半導體、納米粉末、涂層等材料的研究，能在原子尺度上表征他們的顯微組織形貌和微觀結構，探索材料微觀世界的奧妙，并能對內部的不同物相進行電子衍射分析，確定其晶體結構，同時還可以對材料的化學成分進行定性和半定量分析。